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纳米 高速 乳化
纳米 纳米（符号:nm），即为毫微米，是长度的度量单位。1纳米=10的负9次方米。1纳米相当于4倍原子大小，比单个细菌的长度还要小的多。
高速 3000转 9000转 14000转 210000转 何为高速
乳化 是通常用乳化剂（如表面活性剂）稳定，乳化剂在乳化之前混合到两相之一中。乳化剂一部分亲水，一部分亲脂。乳化剂分子的一面与水结合，另一面与油结合。乳化剂如此稳定产生的液滴，从而阻碍乳浊液分离
HPH高压均质机连续式乳化
循环式乳化
IKN提供的乳化技术能够适合于每种应用的降粘程度。IKN乳化机还能够生产的乳浊液的窄粒度分布和长期稳定性。 IKN管线式乳化机具有非常好的能效。混合能集中输入较小的工作区，对产品流起作用。因此，当用管线式乳化机进行乳化时，可实现非常集中的能量输入。同时，设备容量将得以佳利用。 IKN提供的内置EBI分散机（已取得专利）的设备适合于各种乳化工艺，是一种的解决方案。预混合、液滴粉碎及乳化剂和添加剂注入工序都集成到一台机器上。
乳化效果分散
影响分散乳化结果的因素有以下几点
1 乳化头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）
2 乳化头的剪切速率 （越大，效果越好）
3 乳化头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，chao细齿，约细齿效果越好）
4 物料在分散墙体的停留时间，乳化分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）
5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不neng zai好）
线速度的计算
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子 间距 (m)
由上可知，剪切速率取决于以下因素：
– 转子的线速率
– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60
chaoX速分散均质乳化机的高的转速和剪切率对于获得chao细微悬浮液是重要的。根据一些行业te殊要求，依肯公司在ERS2000系列的基础上又开发出ERX2000chaoX速剪切乳化机机。其剪切速率可以chao过200.00 rpm，转子的速度可以da到66m/s。在该速度范围内，由剪切力所造成的湍流结合研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。剪切力更强，乳液的粒经分布更窄。由于能量密度ji gao,无需其他辅助分散设备,可以da到普通的高压均质机的400BAR压力下的颗粒大小.
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