EDI的进水要求
反渗透RO产水，电导率1-20μs/cm，允许电导率更大≤30μs/cm（NaCl）。
PH值：7.5-9
温度：15℃，35℃
进水压力（DIN）：0.15-0.4mpa
浓水入口压力（C）0 100 3MP IN）：0.10--0.3MPa
产水压力（DOUT）：0.05-0.25mpa
浓水出口压力（COUT）：0.02--0.2mpa
进水硬度：<1.0ppm（CaCO）（建议低于0.5ppm）
进水有机物：TOC<0.5ppm
进水硅：SiO2<0.5ppm
总进水CO2:<3ppm
水粒径：<1μm
1.EDI超纯水处理装置，其特征在于包括预处理部分、两级反渗透部分和EDI部分；预处理部分包括原水泵（111）、原水水箱（112）、絮凝加药系统、多媒体过滤器（13）、活性炭过滤器（14）和阻垢剂加药系统，絮凝加药系统包括依次连接的加药计量泵（121）和加药箱（122）。阻垢剂加药系统包括依次连接的二加药计量泵（151）和二加药箱（152）；两级反渗透部分包括反渗透系统和两级反渗透系统。反渗透系统包括安全过滤器（211）、高压泵（212）、反渗透装置（213）和水箱（22），安全过滤器（211）与二级加料箱（152）连接。级反渗透装置213与反渗透化学清洗装置214连接；两级反渗透系统包括两级增压泵（231）、PH调节加碱装置（232）、两级安全过滤器（233）、两级高压泵（234）、两级反渗透装置（235）和两级水箱（24），两级增压泵（231）与水箱（22）相连；EDI部分包括依次连接的EDI增压泵（31）和EDI设备（32），EDI增压泵（31）与二次水箱（24）连接。
2.权利要求1所述的EDI超纯水处理装置，其特征在于：原水泵（111）、加药计量泵（121）、二加药计量泵（151）、高压泵（212）、二级增压泵（231）、二级高压泵（234）和EDI增压泵（31）由PLC控制，加药计量泵（121）和二加药计量泵（151）是电磁隔膜计量泵。加药罐（122）通过进水管加入聚合氯化铝，二加药罐（152）通过进水管加入阻垢剂。阻垢剂是一种分散性隐蔽剂。
3.根据权利要求1所述的EDI超纯水处理装置，其特征在于，所述填充在所述多介质过滤器（13）中的滤料根据所接收的颗粒从大到小、从上到下排列。
4.根据权利要求1所述的EDI超纯水处理装置，其特征在于，所述安全过滤器（211）配备有过滤精度为5μm的喷涂PP棉滤芯，所述反渗透装置（213）的反渗透膜采用聚酰胺复合膜。
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半导体材料在生产过程中几乎每一个全过程都超纯水系统清理，产品工件与水直接接触。一旦水体不过关或水里带有残渣，便会减少机器设备的使用性能和生产量。超纯水系统的品质是半导体材料制造的主要基本。传统式的超纯水系统生产工艺流程选用阳离子环氧树脂互换机器设备。该工序的不足之处是环氧树脂在运用一段时间后应常常再造。伴随着膜分离设备的持续完善，超纯水系统通常选用ro反渗透加工工艺，或EDI和打磨抛光混和床加工工艺制取。水导电率可达18.2mΩ，以达到处理芯片制造行业的水要求。
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