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氮化硅陶瓷缸片特性之良好耐磨性能高抗弯强度

2022-12-04 编号:391848151
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  • 氮化硅陶瓷,杭州海合精密陶瓷
  • 郭小航
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产品详情

产品名高温耐磨材料
面向地区福建莆田城厢区
功能绝缘装置陶瓷
氮化硅陶瓷缸片特性之良好耐磨性能高抗弯强度

氮化硅陶瓷在机械行业的应用

氮化硅陶瓷的性能对于现代技术经常遇到的高温、高速、强腐蚀介质的工作环境,具有特殊的使用价值因而使它在许多领域得到应用并有许多潜在的用途在半导体、航空航天,原子能工业上用作薄膜电容器、高温绝缘体、雷达天线罩、原子反应堆中的支承件和隔离体、的载体等。

图片由杭州海合精密陶瓷提供

氮化硅陶瓷特点

氮化硅化学式Si3N4白色粉状晶体;熔点1900℃,密度3.44克/厘米(20℃)。
氮化硅原材料在熔盐中的浸蚀,遭受氧分压、温度、正离子活跃度、酸碱度等一系列要素的危害,因为蚀坑和缝隙的出现,原材料的抗压强度明显降低。
氮化硅陶瓷因为是键强高的共价化合物,并在气体里能产生金属氧化物防护膜,因此还具备优良的有机化学可靠性,1200℃下列不被氧化,1200~1600℃转化成防护膜可避免进一步空气氧化。

图片由杭州海合精密陶瓷提供

体积密度:3.1-3.3,抗弯强度:600-800MPa,外观颜色:黑灰色,产品纯度:99.9%

制造商:海合氮化硅,特性:高频高介陶瓷,微观结构:单晶,形状:片形

功能:绝缘装置陶瓷,产品参数:10*10*10MM,价格:155元/件,产地:北京房山区

氮化硅陶瓷工艺

氮化硅陶瓷(Si3N4)材料化学性质稳定,耐腐蚀,除外不与其他其他无机酸反应,800℃干燥气氛下不与氧发生反应,超过800℃,开始在在表面生成氧化硅膜,随着温度升高氧化硅膜逐渐变稳定,1000℃左右可与氧生成致密氧化硅膜可保持至1400℃基本稳定。

高纯纳米级氮化硅粉体 

产品纯度:99.99%以上

干压成型,等静压成型 

根据产品的外形和尺寸不同,采用不同工艺,确保产品质量

根据用户需求选择合理工艺 

可提供反应烧结,常压烧结,气压烧结,热压烧结等不同工艺方法制备的产品

尺寸精度:高可达0.003㎜
光洁度:高可达Ra0.03
同心度:高可达0.003㎜
平行度度:高可达0.003㎜
内孔:小可加工0.04㎜
直槽:窄可加工0.1㎜
厚度尺寸:小可加工0.1㎜
螺纹:小可加工内螺纹M2,外螺纹不限

氮化硅陶瓷精密结构件生产定制 

服务,售后无忧。公司不但提供完善的售后服务,机智灵活,针对性的满足客户需求,还为客户量身定制的解决方案,的销售及售后团队。

产品检测,符合图纸要求 

生产自控,交货准时,包装安全。

包装运输确保产品安全送达 

陶瓷材料属于硬脆材料,安全可靠的包装是产品流通的后一道环节

更多相关问题,请联系海合精密陶瓷互动 
           
  • 氮化硅在半导体中的应用

  • 加工方法?

  • 的制作加工工艺有哪些?

  • 加工设备

  • 热压烧结和热等静压烧结

  • 烧结工艺

  • 陶瓷热压烧结开裂

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杭州瑞目特科技有限公司 5年

  • 氮化硅陶瓷,陶瓷加工
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