速纳米乳剂膏均质机 ，乳膏乳化均质机，乳膏在线均质机，乳化设备在乳膏剂生产中的优势，高剪切乳化机，高转速乳化机
乳膏剂成品要求：应易涂布于皮肤或黏膜上，不融化，黏稠度随季节变化应很小。应无酸败、异臭、变色、变硬，乳膏剂不得有油水分离现象。
对于乳膏剂的生产，有两点特别重要，一点是原辅料配制的混合，因为有些原辅料会悬浮或者沉淀于水性或油性基质当中，所以需要预混均质，为下端乳化提供前提。二点就是乳化环节，这个环节至关重要，会直接影响zui终成品的性能，乳化的效果主要取决去粒度的大小，粒度越小乳化效果越好，产品更稳定。粒度的细化又更多的依靠的乳化设备来完成。上海思峻乳化设备的，从事化妆品乳化设备，医药乳化设备的研究与生产，并有着良好的口碑。
【IKN乳化设备在乳膏剂生产中的优势】
1高转速对于获得超细粒度产品是至关重要的，IKN乳化设备转速高达14000转，可以将物料粒径细化到0。2~2微米，从而得到均匀细腻的成品。
2采用德国双端面机械密封，并配有冷却系统，可确保设备24小时连续生产，设备稳定性能高。
3模块化设计理念，可以更加物料的具体需求变换模块，实验多种生产需求。
X速胶体磨
流量*
输出
线速度
功率
入口/出口连接
类型
l/h
rpm
m/s
kW
CMS 2000/4
700
14000
40
4
DN25/DN15
CMS 2000/5
4,000
10,500
40
11
DN40/DN32
CMS 2000/10
10,000
7,300
40
22
DN50/DN50
CMS 2000/20
30,000
4,900
40
45
DN80/DN65
CMS 2000/30
60,000
2,850
40
75
DN150/DN125
CMS 2000/50
100,000
2,000
40
160
DN200/DN150
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到#大允许量的10%。
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
【CMS2000系列产品与传统的设备对比】
⑴ 传统设备需要8小时的分散过程，CMS2000设备1小时就可以完成，更加、节能。
⑵ 传统设备的搅拌转速每分钟几十转，带有分散功能的每分钟转速也在1500转之内，而CMS2000系列每分钟转速可达到5000-6000转，更加。的线速度产生的剪切力，使物料瞬间细化分散，从而获得更的产品。
【CMS2000系列与同类设备的对比】
1 发热问题。同类设备在加工过程中，高粘物料进入腔体后，因背压力大而输送效果差，导致物料在设备腔体中停留时间过长而导致严重发热。CMS2000系列设备在确保效果的基础上，减小了背压阻力，提高了输送能力，减少了停留时间，降低了物料发热的状况。
2 多层多向剪切分散。同类设备定、转子等部件结构单一，多级多层的结构只是单纯的重复性加工，相同的齿槽结构易发生物料未经分散便通过工作腔的短路现象。CMS2000系列定、转子结构采用多层多向剪切的概念，装配式结构使物料得到不同方向的剪切分散，杜绝短路现象，超细分散更加。
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