电子级硫酸浓度分析仪
电子级硫酸又称高纯硫酸、超纯硫酸，属于超净高纯试剂，是一种微电子技术发展过程中不可缺少的关键基础化学试剂，主要用于硅晶片的清洗和蚀刻，可有效除去晶片上的杂质颗粒、无机残留物和碳沉积物。电子级硫酸的纯度和洁净度对电子元件的成品率、电性能及可靠性有着重要的影响。
从纯度上来讲，电子级和分析纯的化学品，相对于普通化学品，其纯度都很高，杂质含量少，但是两个属于不同的标准体系，对杂质的关注点不一样。 电子级是对用于电子元器件生产过程中使用的化学品的一种泛指，相对于一般工业，其纯度要求更高，尤其是平板显示行业或者半导体行业。其更每种化学品更中的有害杂质含量，金属离子，固体颗粒等等。用于半导体工业的电子级化学品纯度一般比分析纯的化学试剂更高，可参考SEMI相关化学品的标准。对于芯片生产过程来说，一般情况下，纯度会在99.999%数量级，12寸芯片生产可能会用到99.999999999%纯度的化学品。 分析纯是化学试剂的一个纯度标准，这个系列里包括 优级纯，分析纯，化学纯和实验纯。其中分析纯干扰杂质很少，适用于工业分析及化学实验，比如用于滴定之类的分析。
在复杂的芯片生产工艺中，硫酸也是的试剂。
硅圆片在加工过程中，常常会被不同的杂质所沾污，硅圆片上不溶性固体颗粒或金属离子可能在微细电路之间导电，使之短路。钠、钙等碱金属杂质也会融进氧化膜中，导致耐绝缘电压下降。硼、磷、砷等杂质离子会影响扩散剂的扩散效果，尘埃颗粒会造成光刻缺陷，氧化层不平整，影响制版质量和等离子蚀刻工艺。
为了获得集成电路芯片，除去各种沾污物，这就需要使用非常纯净的化学试剂来清洗硅圆片。硫酸和过氧化氢可以按比例组成有强氧化性的SPM清洗液，将有机物氧化成CO2和H2O。它还可用于光刻过程中的湿法蚀刻去胶，借助于化学反应从硅圆片的表面除去固体物质，导致固体表面全部或局部溶解。
硫酸在此处的作用是消除晶圆上的各种杂质，那么其本身就肯定不能做为污染源再引入杂质，因此该工艺对于硫酸本身纯净度的要求也相当高。1975年，美国的国际半导体设备与材料协会（Semiconductor Equipment and Materials International，SEMI）为微电子工业配套的电子级化学品制定了统一标准（SEMI标准）；1978年，德国的默克公司也制定了MOS标准。两种标准对电子级化学品中金属杂质和微粒（尘埃）的要求各有侧重，分别适用于不同级别IC的制作要求。
E-Scan系列电子级硫酸浓度在线分析仪采用临界角检测原理，检测不受物料的颜色，浑浊度，气泡，固体颗粒等杂质的影响、具备的自动温度补偿功能。采用的分体式体式，全屏蔽抗干扰设计，光电信号直接转换处理。摒弃一体式不耐振动和高温的影响的缺点，保障了在线测量的精度及延长仪器使用寿命。内置光纤光路传导系统，拥有的抗震性能和高稳定性、内置温度传感器和干燥剂有效监测糖度仪的运行状态。
E-Scan系列电子级硫酸浓度在线分析仪可以安装在不同管径的管道或者罐体容器壁上，进行浓度监测和控制，可以直接显示质量（Percent)、固形物含量(S.G.)、密度(T.T.A)或用户自定义的单位，现场显示并可以模拟信号（RS232)远传至电脑进行即时数据存储、打印、追溯等功能；通过4-20ma信号远传至plc/dcs /变频器进行监控或控制。
E-Scan系列电子级硫酸在线分析仪拥有以下特征：
●316ss材质的传感器使其满足化工、半导体行业的要求并且耐温高达150℃；
●免维护、无耗材、无漂移、自诊断功能，智能报警信号输出功能；
●防护等级：NEMA4X(IP67）；
●自动温度补偿（软件拥有丰富的产品线性数据库和温度补偿数据库）；
●多组4-20maA模拟信号及数字信号输出（隔离，非隔离可选）；
●3648高分辨率的CCD；
●多种报警信息输出显示（高低/高高/低低/偏差）；
●可循环的干燥剂，无耗材，免维护；
●光源为589nmled灯，寿命长达100000小时；
●安装适配器标准:PTFE,Tantalum、Alloy20、teflon；
●，“美国制造”
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