罗红霉素化合物及其制备，软胶囊制剂胶体磨，罗红霉素和油性基质混合制备，罗红霉素膏剂胶体磨，CMS2000/4胶体磨，红霉素膏剂胶体磨，ikn胶体磨是普通胶体磨的4-5倍以上，研磨效果非常好，转速可以达14000RPM。
罗红霉素150重量份，油性基质100～150重量份；按重量比加入到配液罐中，混合均匀，过胶体磨；然后将罗红霉素和油性基质的混合物冷冻至-25～-40℃，降温速度为2～15℃/min；抽真空
混合均匀，过胶体磨 如何选择胶体磨 如何混合均与、、、
目前上大多数的胶体磨厂家生产出来的胶体磨转速只能达到3000rpm左右，当然我所说的都是指工业化的胶体磨机。对于实验室小型胶体磨机，由于电机（220V），轴等因素转速可达30000rpm左右，但是这种实验室胶体磨无法对应放大到生产中，所以在这里不做讲诉。
当用我们的设备好处是什么？效果好（研磨效果、均质效果、分散效果、乳化效果……），速度快，。每一台设备都具有多功能改装，根据不同的要求更换不同的模块。还有什么？？？那就是能耗低，据用过依肯的设备客户反应，就电费就能省下不少。如何去选择一台合适的设备，一定会做一个明智的选择！
罗红霉素膏剂胶体磨优点：
1 CMS2000系列作为一个用于混合分散粉碎工艺的设备,其具有连续式性操作,因此也被称作连续式速粉碎机,能够更好满足大批量连续化生产作业要求.
1分散乳化粉碎:批次乳化机在进行乳化前往往需要预搅拌,在其基础上才能实现较好的分散乳化混合效果.因此所需要时间更多,产量更小.适用于不连续生产或者产量较小的生产.而连续式胶体磨机可以直接进行投料,更短时间能够实现混合分散的颗粒经的要求.产量大,适用于连续式生产,产量更大的情况.
2分散效粉碎果好：其他粉碎设备在罐体内，物料与粉碎头较松散，工作时依靠强大的吸力使物料进入分散头中，不能实现足够小的颗粒经要求。而连续式乳化机由于乳化腔体内部设计足够小，胶体磨头与物料紧密接触，剪切充分，同时胶体磨腔体设计成多层转定子咬合结构，优化粗齿结构，可以满足混合乳化粉碎的颗粒经分布较窄，效率更高
3 技术功能指标更高：CMS2000系列管线胶体磨机比较在相同的马达情况下，转速有明显优势，CMS2000转速可以达到14000RPM，可以在更短的恶时间内处理更多符合要求的物料，能够为大批量生产的企业实现生产过程的成本降低。
IKNCMS2000/4胶体磨机可用于小试研发，以及中试验证。处理量可从2L-300L，充分满足研发的需求和中试的验证。IKN胶体磨机设备都是线性放大，小试设备和工业化设备效果一致，小试摸索的参数可直接放大到工业化生产用。
目前，许多高校以及研究院从事研发研究，IKN的小试胶体磨，直接可以放在实验台上操作，简单。
CMS2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
三级错齿结构的研磨转子，配合精密的定子腔。此款高速胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,zui大的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。
高速胶体磨
流量*
输出
线速度
功率
入口/出口连接
类型
l/h
rpm
m/s
kW
CMS 2000/4
700
14000
40
4
DN25/DN15
CMS 2000/5
4,000
10,500
40
11
DN40/DN32
CMS 2000/10
10,000
7,300
40
22
DN50/DN50
CMS 2000/20
30,000
4,900
40
45
DN80/DN65
CMS 2000/30
60,000
2,850
40
75
DN150/DN125
CMS 2000/50
100,000
2,000
40
160
DN200/DN150
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到大允许量的10%。
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度，稠度和终产品的要求。
3 如高温，高压，易燃易爆，腐蚀性等工况，提供准确的参数，以便选型和定制。
4 本表的数据因技术改动，定制而不符，正确的参数以提供的实物为准。
5 本系列机型具有短程送料能力，无自吸功能，须选用高位进料；物料粘度或固含量高导致不能正常进料和输送时，须选用压力或输送泵进料或送料，输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。
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