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PVD的全写为Physical Vapor Deposition,中文翻译为物理气相沉积。
采用阴极电弧等离子体沉积技术。阴极电弧等离子体沉积是相对较新的薄膜沉积技术，它在许多方面类似于离子镀技术。其优点：在发射的粒子流中离化率高，而且这些离化的离子具有较高的动能（40-100eV)。许多离子束沉积的优点，如提粘着力，增加态密度、对化合物膜形成具有高反应率等优点在阴极电弧等离子体沉积中均有所体现。而阴极电弧等离子体沉积又具有自己一些特优点，如可在较多复杂形状基片上进行沉积，沉积率高，涂层均匀性好，基片温度低，易于制备理想化学配比的化合物或合金。
通过蒸发过程将阴极材料蒸发是源于高电流密度，所得到的蒸发物由电子、离子、中心气相原子和微粒组成。在阴极电弧点，材料几乎被离化，这里离子在几乎垂直于阴极表面的方向发射出去，当带有高能量的铬离子碰到氮气后便会马上产生化学反应，变成气态的氮化铬分子了。
氮化钛百科介绍
由于氮化钛具有高熔点、高硬度、高温化学稳定性及优良的导热性能、导电性能、光学性能、生物相容性，适用于耐高温、耐磨损、低辐射玻璃涂层及医学领域。手饰工业上用氮化钛作金色涂料，主要用于涂表壳。
【中文名称】氮化钛
【英文名称】titanium nitride
【密度】5.43
【熔点（℃）】2950
【性状】有二氮化二钛(Ti2N2)和(Ti3N4)两种。二氮化二钛为黄色固体。溶于煮沸的王水。遇到热的氢氧化钠溶液则有氨放出。Ti3N4的性质与二氮化二钛相似。
【制备或来源】可由钛和氮在1200℃直接反应制得。涂层可由氮气、氢气混合气体通过气相沉积法形成。二氮化二钛由金属钛在900～1000℃的氮或氨中加热而得。在1000℃的氨中加热而得。
氮碳化钛的介绍
TiCN 具有比 TiN 更低的摩擦系数和更高的硬度 , 镀了氮碳化钛的工具更加适合于切割如不锈钢 , 钛合金和镍合金等坚硬材料，更具耐磨性和高温稳定性，可显著提高刀具的寿命。 性质：深灰色粉末。具有较低的内应力，较高的韧性，良好的润滑性，以及高硬度、耐磨损等特性，适用于要求较低的摩擦系数及较高硬度的场合。
PVD是英文Physical Vapor Deposition（物理气相沉积）的缩写，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。PVD纳米涂层通常称谓：镀钛,真空镀钛，镀铬，镀钛加工，PVD镀钛，纳米镀钛，纳米涂层，真空镀钛加工，真空涂层，表面处理等。
真空镀钛涂层特点：增寿、增硬、增值,并以其硬高度、高耐磨、强抗腐蚀性、抗高温、抗黏着性等的使用性能广泛应用于模具工业中。
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